极紫外光刻最新资讯-快科技--科技改动未来

  快科技2月26日音讯，美光宣告，根据最新1纳米工艺的DDR5 DRAM内存芯片现已投产，功能、能效、密度等各项目标都大幅度的进步。 DRAM内存职业的节点工艺一向不标示详细数值，而是1a、1b、1c、

  快科技2月26日音讯，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支撑High-NA也便是高孔径，Intel上一年抢先拿下了第一台，现在现已在俄勒冈州Fab D1晶圆厂装置布置了两台，

  快科技1月24日音讯，据国内新闻媒体报道称，荷兰辅弼斯霍夫日前承受媒体采访时表明，在荷兰光刻机巨子阿斯麦对华出口产品的问题上，荷兰政府期望自行决定施行什么样的方针。 “美国拜登政府就约束

  美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣告开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技能的下一步开展奠定根底。 该激光器的功率号称是现在ASML EUV光刻机中运用

  快科技1月6日音讯，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研讨一种功率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技能开展奠定根底。 据报道，LLNL正在研制的是一种拍瓦级（

  快科技12月19日音讯，据报道，日本草创晶圆代工厂Rapidus已成功接纳其订货的首台ASML EUV光刻机，这是日本境内初次引进量产用EUV光刻设备。 Rapidus也成为日本首家具有EUV光刻机的公司，因为EU

  快科技11月15日音讯，ASML在近来举行的2024年投资者日会议上，更新了长时间战略以及全球商场和技能趋势改变剖析，承认其到2030年的年收入将到达约440亿至600亿欧元(约合人民币3355亿元至4575亿元)，毛

  8月7日音讯，近来日本冲绳科学技能大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研讨团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜体系。 比较传统的至少需求六面反射镜的装备

  快科技8月6日音讯，在近来的财报电话会议上，Intel CEO宣告已成功接纳全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV（极紫外光刻机）。 High NA EUV光刻机是现在世界上最先进的芯片制作设备之一，其分

  快科技7月17日音讯，ASML(阿斯麦)今日发布了2024年第二季度财务报表，局势喜人：净销售额62.43亿欧元，环比增加18.0％；毛利率51.5％，较上季度提高0.5个百分点；净利润15.78亿欧元，环比增加28.9％